Susceptor de rotație a acoperirii TaC

VeTek Semiconductor TaC Coating Rotation Susceptor este o componentă cheie pentru manipularea plachetelor în procesarea semiconductoarelor. SaleTaC Conoastreare o toleranță excelentă la temperatură ridicată (punct de topire până la 3880°C), stabilitate chimică și rezistență la coroziune, care asigură precizie ridicată și calitate înaltă în prelucrarea plachetelor.

TaC Coating Rotation Susceptor (Tantalum Carbon Coating Rotation Susceptor) este o componentă cheie a echipamentului utilizat în procesarea semiconductoarelor. De obicei este instalat îndepunere chimică de vapori (CVD)și echipament de epitaxie cu fascicul molecular (MBE) pentru a susține și rotește plachetele pentru a asigura depunerea uniformă a materialului și o reacție eficientă. Acest tip de produs îmbunătățește semnificativ durata de viață și performanța echipamentului în medii de temperatură ridicată și corozive prin acoperirea substratului cuacoperire cu tantal carbon (TaC)..

Susceptorul de rotație al acoperirii TaC este de obicei compus din acoperire TaC și grafit sau carbură de siliciu ca material substrat. TaC este un material ceramic cu temperatură ultra-înaltă, cu punct de topire extrem de ridicat (punct de topire până la 3880°C), duritate (duritatea Vickers este de aproximativ 2000 HK) și rezistență excelentă la coroziune chimică. VeTek Semiconductor poate acoperi eficient și uniform acoperirea cu carbon de tantal de pe materialul substratului prin tehnologia CVD.

Susceptor de rotație este de obicei fabricat din materiale de înaltă conductivitate termică și de înaltă rezistență (grafit saucarbură de siliciu), care poate oferi un suport mecanic bun și stabilitate termică în medii cu temperaturi ridicate. Combinația perfectă a celor două determină performanța perfectă a Susceptorului de rotație a acoperirii TaC în plăcile de susținere și rotație.

TaC Coating Rotation Susceptor susține și rotește napolitana în procesul CVD. Duritatea Vickers a TaC este de aproximativ 2000 HK, ceea ce îi permite să reziste la frecarea repetată a materialului și să joace un rol bun de susținere, asigurând astfel că gazul de reacție este distribuit uniform pe suprafața plachetei și materialul este depus uniform. În același timp, toleranța ridicată la temperatură și rezistența la coroziune a acoperirii TaC îi permit să fie utilizat pentru o lungă perioadă de timp în atmosfere de temperatură ridicată și corozive, ceea ce evită în mod eficient contaminarea napolitanei și a suportului.

Mai mult, conductivitatea termică a TaC este de 21 W/m·K, care are un bun transfer de căldură. Prin urmare, TaC Coating Rotation Susceptor poate încălzi uniform napolitana în condiții de temperatură ridicată și poate asigura uniformitatea procesului de depunere a gazului prin mișcare de rotație, menținând astfel consistența și calitatea înaltă acreșterea napolitanelor.

Acoperire cu carbură de tantal (TaC) pe o secțiune transversală microscopică：

Proprietățile fizice ale acoperirii cu TaC：

Magazine TaC Coating Rotation Susceptor: