Capac de acoperire cu carbură de tantal

VeTek Semiconductor este un producător de frunte și inovator de acoperire de acoperire cu carbură de tantal în China. Ne concentrăm pe furnizarea de produse din carbură de tantal de înaltă puritate, rezistente la temperaturi înalte. Capacul nostru acoperit cu carbură de tantal are performanțe și fiabilitate excelente și poate proteja eficient materialele în medii extrem de ridicate de temperatură și corozive. Așteptăm cu nerăbdare să devenim partenerul dumneavoastră pe termen lung în China.

Trimite o anchetă

Descriere produs

VeTek Semicoducto este un producător și furnizor profesionist de acoperire din carbură de tantal din China. Capacul nostru de acoperire cu carbură de tantal reprezintă cea mai recentă soluție în aplicațiile termice pentru procesele de creștere a cristalelor și epitaxie (epi). Această acoperire unică, realizată cu grijă, este o componentă critică pentru susținerea formării cristalelor și a depunerii peliculei epitaxiale.

Materialul de bază al capacului de grafit acoperit cu TaC este fabricat din grafit de înaltă calitate, care este cunoscut pentru conductivitate termică și stabilitate excelentă. Capacitatea grafitului de a rezista la temperaturi extreme îl face un material ideal pentru aplicații în câmp termic, asigurând longevitate și fiabilitate în medii solicitante.

Caracteristica unică a capacului de grafit acoperit cu TaC este acoperirea sa inovatoare cu carbură de tantal (TaC). Această acoperire avansată îmbunătățește performanța husei adăugând un strat robust de protecție și sporind rezistența acesteia la coroziune, uzură și șoc termic. Acoperirea TaC nu numai că îmbunătățește rezistența învelișului în condiții grele, dar îmbunătățește și eficiența și îi prelungește durata de viață.

În timpul procesului de creștere a cristalelor, capacul de grafit acoperit cu TaC facilitează controlul precis al temperaturii și distribuie uniform căldura, creând un mediu care favorizează formarea de cristale de înaltă calitate. În plus, adaptabilitatea sa în timpul procesului de epitaxie asigură depunerea controlată a peliculelor subțiri, care este esențială pentru aplicațiile semiconductoare și știința materialelor.

Acest capac de grafit acoperit cu TaC, proiectat cu grijă, demonstrează pe deplin sinergia dintre proprietățile inerente ale grafitului și capacitățile îmbunătățite oferite de acoperirea TaC. Indiferent dacă este utilizat în laboratoare, instituții de cercetare sau medii industriale, capacul de grafit acoperit cu TaC este un model de inovație în tehnologie termică, oferind o soluție fiabilă și durabilă pentru procesele de creștere a cristalelor și epitaxie. VeTek Semiconductor va continua să se angajeze să ofere clienților cele mai avansate soluții tehnologice și asistență cuprinzătoare.

Parametrul de produs al capacului de acoperire cu carbură de tantal

Proprietățile fizice ale acoperirii cu TaC
Densitate	14,3 (g/cm³)
Emisivitate specifică	0.3
Coeficientul de dilatare termică	6,3 10-6/K
Duritate (HK)	2000 HK
Rezistenţă	1×10-5 Ohm*cm
Stabilitate termică	<2500℃
Dimensiunea grafitului se modifică	-10~-20um
Grosimea stratului de acoperire	≥20um valoare tipică (35um±10um)