Acasă > Produse > Acoperire cu carbură de siliciu

China Acoperire cu carbură de siliciu Producător, Furnizor, Fabrică

VeTek Semiconductor este specializată în producția de produse de acoperire cu carbură de siliciu ultra pure, aceste acoperiri sunt concepute pentru a fi aplicate pe grafit purificat, ceramică și componente metalice refractare.

Acoperirile noastre de înaltă puritate sunt destinate în primul rând utilizării în industriile semiconductoare și electronice. Acestea servesc ca un strat de protecție pentru purtătorii de plachete, susceptori și elemente de încălzire, protejându-le de mediile corozive și reactive întâlnite în procese precum MOCVD și EPI. Aceste procese sunt parte integrantă a procesării plachetelor și a fabricării dispozitivelor. În plus, acoperirile noastre sunt potrivite pentru aplicații în cuptoare cu vid și încălzire a probelor, unde se întâlnesc medii de vid înalt, reactive și oxigen.

La VeTek Semiconductor, oferim o soluție cuprinzătoare cu capabilitățile noastre avansate de atelier de mașini. Acest lucru ne permite să fabricăm componentele de bază folosind grafit, ceramică sau metale refractare și să aplicăm acoperirile ceramice SiC sau TaC în interior. Oferim, de asemenea, servicii de acoperire pentru piesele furnizate de client, asigurând flexibilitate pentru a răspunde nevoilor diverse.

Produsele noastre de acoperire cu carbură de siliciu sunt utilizate pe scară largă în epitaxie Si, epitaxie SiC, sistem MOCVD, proces RTP/RTA, proces de gravare, proces de gravare ICP/PSS, proces de diferite tipuri de LED, inclusiv LED albastru și verde, LED UV și UV adânc LED etc., care este adaptat echipamentelor de la LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI și așa mai departe.


Piese de reactor pe care le putem face:

Aixtron G5,EPI susceptor,MOCVD susceptor


Acoperirea cu carbură de siliciu mai multe avantaje unice:

Silicon Carbide Coating several unique advantages


Parametru de acoperire cu carbură de siliciu VeTek Semiconductor:

Proprietățile fizice de bază ale acoperirii CVD SiC
Proprietate Valoare tipică
Structura de cristal FCC policristalină în fază β, orientată în principal (111).
Densitate 3,21 g/cm³
Duritate Duritate 2500 Vickers (încărcare 500g)
Dimensiunea boabelor 2~10μm
Puritatea chimică 99,99995%
Capacitate termică 640 J·kg-1·K-1
Temperatura de sublimare 2700℃
Rezistența la încovoiere 415 MPa RT în 4 puncte
Modulul Young 430 Gpa 4 pt îndoire, 1300 ℃
Conductivitate termică 300W·m-1·K-1
Expansiune termică (CTE) 4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films


View as  
 
Inel de focalizare solid SiC Gravurare

Inel de focalizare solid SiC Gravurare

VeTek Semiconductor este un producător și inovator de inele de focalizare solid SiC în China. Suntem specializați în material SiC de mulți ani. SiC solid este ales ca material inel de focalizare datorită stabilității sale termochimice excelente, rezistenței mecanice ridicate și rezistenței la plasmă. eroziune. Așteptăm cu nerăbdare să devenim partenerul tău pe termen lung în China.

Citeşte mai multTrimite o anchetă
În calitate de producător și furnizor profesionist Acoperire cu carbură de siliciu în China, avem propria noastră fabrică. Indiferent dacă aveți nevoie de servicii personalizate pentru a satisface nevoile specifice ale regiunii dvs. sau doriți să cumpărați Acoperire cu carbură de siliciu avansat și durabil fabricat în China, ne puteți lăsa un mesaj.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept