Cap de duș cu gaz SiC solid

Cap de duș cu gaz solid SiC

VeTek Semiconductor este o companie integrată dedicată cercetării, producției și vânzărilor. Cu peste 20 de ani de experiență, echipa noastră este specializată în SiC, acoperiri TaC și CVD Solid SiC. Bine ați venit să cumpărați de la noi cap de duș cu gaz solid SiC.

Capul de duș cu gaz SiC solid VeTek Semiconductor este folosit în mod obișnuit pentru a distribui uniform gazele precursoare pe suprafața substratului în timpul proceselor CVD cu semiconductor. Utilizarea materialului CVD-SiC pentru capete de duș oferă mai multe avantaje. Conductivitatea sa termică ridicată ajută la disiparea căldurii generate în procesul CVD, asigurând o distribuție uniformă a temperaturii pe substrat. În plus, stabilitatea chimică a capului de duș cu gaz Solid SiC îi permite să reziste la gazele corozive și mediile dure întâlnite frecvent în procesele CVD. Designul capetelor de duș CVD-SiC poate fi adaptat la anumite sisteme CVD și cerințele procesului. Cu toate acestea, acestea constau de obicei dintr-o placă sau o componentă în formă de disc cu o serie de găuri sau fante găurite cu precizie. Modelul găurilor și geometria sunt proiectate cu atenție pentru a asigura o distribuție uniformă a gazului și o viteză de curgere pe suprafața substratului.

Proprietățile fizice ale solidului SiC

Magazin de producție VeTek Semiconductor

Lanțul industriei de epitaxie a semiconductoarelor