China Carbură de siliciu solidă Producător, Furnizor, Fabrică

Carbura de siliciu solidă VeTek Semiconductor este o componentă ceramică importantă în echipamentele de gravare cu plasmă, carbură de siliciu solidă (Carbură de siliciu CVD) părțile din echipamentul de gravare includinele de focalizare, duș cu gaz, tavă, inele de margine, etc. Datorită reactivității și conductivității scăzute a carburii de siliciu solide (carbură de siliciu CVD) la gazele de gravare care conțin clor și fluor, este un material ideal pentru inelele de focalizare ale echipamentelor de gravare cu plasmă și alte componente.

De exemplu, inelul de focalizare este o parte importantă plasată în afara plachetei și în contact direct cu placheta, prin aplicarea unei tensiuni inelului pentru a focaliza plasma care trece prin inel, concentrând astfel plasma pe plachetă pentru a îmbunătăți uniformitatea prelucrare. Inelul de focalizare tradițional este realizat din silicon saucuarţ, Siliciu conductiv ca material inel de focalizare obișnuit, este aproape aproape de conductivitatea plachetelor de siliciu, dar lipsa este rezistența slabă la gravare în plasmă care conține fluor, materiale pentru piesele mașinii de gravare adesea utilizate pentru o perioadă de timp, vor exista serioase fenomen de coroziune, reducând serios eficiența producției.

SInel de focalizare SiCPrincipiul de lucru：

Working Principle of Solid SiC Focus Ring

Comparație între inelul de focalizare pe bază de Si și inelul de focalizare CVD SiC:

Comparație între inelul de focalizare pe bază de Si și inelul de focalizare CVD SiC
Articol	Si	CVD SiC
Densitate (g/cm³)	2.33	3.21
Interval de bandă (eV)	1.12	2.3
Conductivitate termică (W/cm℃)	1.5	5
CTE (x10^-6/℃)	2.6	4
Modulul elastic (GPa)	150	440
Duritate (GPa)	11.4	24.5
Rezistenta la uzura si coroziune	Sărac	Excelent

VeTek Semiconductor oferă piese avansate din carbură de siliciu solidă (carbură de siliciu CVD), cum ar fi inele de focalizare SiC pentru echipamentele semiconductoare. Inelele noastre de focalizare din carbură de siliciu solidă depășesc siliciul tradițional în ceea ce privește rezistența mecanică, rezistența chimică, conductibilitatea termică, durabilitatea la temperatură ridicată și rezistența la gravarea ionică.

Caracteristicile cheie ale inelelor noastre de focalizare SiC includ:

Densitate mare pentru rate reduse de gravare.

Izolație excelentă cu bandgap mare.

Conductivitate termică ridicată și coeficient scăzut de dilatare termică.

Rezistență superioară la impact mecanic și elasticitate.

Duritate ridicată, rezistență la uzură și rezistență la coroziune.

Fabricat folosinddepunere chimică de vapori îmbunătățită cu plasmă (PECVD)tehnici, inelele noastre de focalizare SiC îndeplinesc cerințele tot mai mari ale proceselor de gravare în fabricarea semiconductorilor. Sunt proiectate pentru a rezista la o putere și o energie mai mare a plasmei, în special înplasmă cuplată capacitiv (CCP)sisteme.

Inelele de focalizare SiC ale VeTek Semiconductor oferă performanță și fiabilitate excepționale în fabricarea dispozitivelor semiconductoare. Alegeți componentele noastre SiC pentru o calitate și eficiență superioare.

View as

Inel de focalizare solid SiC Gravurare

VeTek Semiconductor este un producător și inovator de inele de focalizare solid SiC în China. Suntem specializați în material SiC de mulți ani. SiC solid este ales ca material inel de focalizare datorită stabilității sale termochimice excelente, rezistenței mecanice ridicate și rezistenței la plasmă. eroziune. Așteptăm cu nerăbdare să devenim partenerul tău pe termen lung în China.

Citeşte mai mult Trimite o anchetă

<1 2 3 >

În calitate de producător și furnizor profesionist Carbură de siliciu solidă în China, avem propria noastră fabrică. Indiferent dacă aveți nevoie de servicii personalizate pentru a satisface nevoile specifice ale regiunii dvs. sau doriți să cumpărați Carbură de siliciu solidă avansat și durabil fabricat în China, ne puteți lăsa un mesaj.