VeTek Semiconductor Silicon Pedestal este o componentă cheie în procesele de difuzie și oxidare a semiconductoarelor. Fiind o platformă dedicată pentru transportul bărcilor de siliciu în cuptoare cu temperatură înaltă, piedestalul de silicon are multe avantaje unice, inclusiv uniformitatea îmbunătățită a temperaturii, calitatea optimizată a plachetelor și performanța îmbunătățită a dispozitivelor semiconductoare. Pentru mai multe informații despre produse, nu ezitați să ne contactați.
Suceptorul de siliciu VeTek Semiconductor este un produs de siliciu pur conceput pentru a asigura stabilitatea temperaturii în tubul reactorului termic în timpul procesării plachetelor de siliciu, îmbunătățind astfel eficiența izolației termice. Prelucrarea plachetelor de siliciu este un proces extrem de precis, iar temperatura joacă un rol crucial, afectând direct grosimea și uniformitatea filmului de plachete de siliciu.
Piedestalul de siliciu este situat în partea inferioară a tubului reactorului termic al cuptorului, susținând siliciulpurtător de napolitaneoferind în același timp o izolare termică eficientă. La sfârșitul procesului, acesta se răcește treptat la temperatura ambiantă împreună cu purtătorul de placă de siliciu.
Oferiți suport stabil pentru a asigura acuratețea procesului
Piedestalul din silicon oferă o platformă de sprijin stabilă și foarte rezistentă la căldură pentru barca din silicon în camera cuptorului cu temperatură înaltă. Această stabilitate poate împiedica efectiv mișcarea sau înclinarea barcii din silicon în timpul procesării, evitând astfel afectarea uniformității fluxului de aer sau distrugerea distribuției temperaturii, asigurând precizie și consistență ridicate a procesului.
Îmbunătățiți uniformitatea temperaturii în cuptor și îmbunătățiți calitatea napolitanelor
Izolând barca de silicon de contactul direct cu fundul cuptorului sau peretele, baza de siliciu poate reduce pierderile de căldură cauzate de conducție, obținând astfel o distribuție mai uniformă a temperaturii în tubul de reacție termică. Acest mediu termic uniform este esențial pentru a obține uniformitatea difuziei plachetei și a stratului de oxid, îmbunătățind considerabil calitatea generală a plachetei.
Optimizați performanța de izolare termică și reduceți consumul de energie
Proprietățile excelente de izolare termică ale materialului pe bază de siliciu ajută la reducerea pierderilor de căldură în camera cuptorului, îmbunătățind astfel semnificativ eficiența energetică a procesului. Acest mecanism eficient de management termic nu numai că accelerează ciclul de încălzire și răcire, dar reduce și consumul de energie și costurile de operare, oferind o soluție mai economică pentru fabricarea semiconductorilor.
Structura produsului |
Integrat, Sudare |
Tip conductiv/Doping |
Personalizat |
Rezistivitate |
Rezistență scăzută (E.G.<0,015, <0,02...). ; |
Rezistență moderată (E.G.1-4); |
|
Rezistență ridicată (E.G. 60-90); |
|
Personalizare client |
|
Tip material |
Policristal/Cristal unic |
Orientare cristal |
Personalizat |