Produse

View as

Plafon acoperit cu CVD SiC

În calitate de producător și furnizor profesionist de tavan acoperit cu CVD SiC în China, plafonul acoperit cu CVD SiC al VeTek Semiconductor are proprietăți excelente, cum ar fi rezistența la temperatură ridicată, rezistența la coroziune, duritatea ridicată și coeficientul de dilatare termică scăzut, făcându-l o alegere ideală de material în fabricarea semiconductorilor. Așteptăm cu nerăbdare să cooperăm în continuare cu dvs.

Citeşte mai mult Trimite o anchetă

Fusta acoperită cu CVD SiC

VeTek Semiconductor este un producător de frunte, inovator și lider de acoperire CVD SiC și acoperire TAC în China. De mulți ani, ne-am concentrat pe diverse produse de acoperire CVD SiC, cum ar fi fusta acoperită cu CVD SiC, inelul de acoperire CVD SiC, suportul de acoperire CVD SiC etc. consultare.

Citeşte mai mult Trimite o anchetă

Deflector de acoperire CVD SiC

Deflectorul de acoperire CVD SiC de la Vetek Semiconductor este utilizat în principal în Si Epitaxie. Este de obicei folosit cu butoaie de extensie din silicon. Combină temperatura ridicată unică și stabilitatea deflectorului de acoperire CVD SiC, care îmbunătățește considerabil distribuția uniformă a fluxului de aer în fabricarea semiconductorilor. Credem că produsele noastre vă pot aduce tehnologie avansată și soluții de produse de înaltă calitate.

Citeşte mai mult Trimite o anchetă

Cilindru de grafit CVD SiC

Cilindrul de grafit CVD SiC al Vetek Semiconductor este esențial în echipamentele semiconductoare, servind drept scut de protecție în reactoare pentru a proteja componentele interne la setări de temperatură și presiune ridicată. Protejează eficient împotriva substanțelor chimice și a căldurii extreme, păstrând integritatea echipamentului. Cu o rezistență excepțională la uzură și coroziune, asigură longevitate și stabilitate în medii provocatoare. Utilizarea acestor capace îmbunătățește performanța dispozitivului semiconductor, prelungește durata de viață și atenuează cerințele de întreținere și riscurile de deteriorare. Bine ați venit să ne întrebați.

Citeşte mai mult Trimite o anchetă

Duza de acoperire CVD SiC

Duzele de acoperire CVD SiC ale Vetek Semiconductor sunt componente esențiale utilizate în procesul de epitaxie LPE SiC pentru depunerea materialelor din carbură de siliciu în timpul producției de semiconductori. Aceste duze sunt de obicei realizate din material din carbură de siliciu stabil la temperatură ridicată și chimic pentru a asigura stabilitatea în medii dure de procesare. Proiectate pentru depunerea uniformă, ele joacă un rol cheie în controlul calității și uniformității straturilor epitaxiale crescute în aplicații cu semiconductori. Așteptăm cu nerăbdare să stabilim o cooperare pe termen lung cu dvs.

Citeşte mai mult Trimite o anchetă

Protector de acoperire CVD SiC

Vetek Semiconductor furnizează Protectorul de acoperire CVD SiC utilizat este epitaxia LPE SiC. Termenul „LPE” se referă de obicei la Epitaxie la presiune joasă (LPE) în depunerea de vapori chimici la presiune joasă (LPCVD). În producția de semiconductori, LPE este o tehnologie de proces importantă pentru creșterea filmelor subțiri monocristaline, adesea folosite pentru a crește straturi epitaxiale de siliciu sau alte straturi epitaxiale semiconductoare. Vă rugăm să nu ezitați să ne contactați pentru mai multe întrebări.

Citeşte mai mult Trimite o anchetă

<1 2 >