Cilindru de grafit CVD SiC

Cilindrul de grafit CVD SiC de la Vetek Semiconductor joacă un rol important în echipamentele semiconductoare. De obicei, este folosit ca un capac de protecție în interiorul reactorului pentru a oferi protecție pentru componentele interne ale reactorului în medii cu temperatură ridicată și presiune înaltă. Acest capac de protecție poate izola în mod eficient substanțele chimice și temperaturile ridicate din reactor, prevenind ca acestea să provoace deteriorarea echipamentului. În același timp, cilindrul de grafit CVD SiC are, de asemenea, o rezistență excelentă la uzură și coroziune, făcându-l capabil să mențină stabilitatea și durabilitatea pe termen lung în medii dure de lucru. Prin utilizarea capacelor de protecție din acest material, performanța și fiabilitatea dispozitivelor semiconductoare pot fi îmbunătățite, prelungind durata de viață a dispozitivului, reducând în același timp nevoile de întreținere și riscul de deteriorare.

Cilindrul de grafit CVD SiC are o gamă largă de aplicații în echipamentele semiconductoare, incluzând, dar fără a se limita la următoarele aspecte:

Echipament de tratament termic: Cilindrul de grafit CVD SiC poate fi folosit ca capac de protecție sau scut termic în echipamentele de tratament termic pentru a proteja componentele interne de temperaturi ridicate, oferind în același timp o rezistență excelentă la temperaturi ridicate.

Reactorul de depunere în vapori chimici (CVD): În reactorul CVD, cilindrul de grafit CVD SiC poate fi folosit ca un capac de protecție pentru camera de reacție chimică, izolând eficient substanța de reacție și oferind rezistență la coroziune.

Aplicații în medii corozive: Datorită rezistenței sale excelente la coroziune, cilindrul de grafit CVD SiC poate fi utilizat în medii corodate chimic, cum ar fi medii corozive cu gaz sau lichid în timpul producției de semiconductori.

Echipament de creștere a semiconductoarelor: capace de protecție sau alte componente utilizate în echipamentele de creștere a semiconductorilor pentru a proteja echipamentele de temperaturi ridicate, coroziune chimică și uzură pentru a asigura stabilitatea și fiabilitatea pe termen lung a echipamentului.

Stabilitate la temperaturi ridicate, rezistență la coroziune, proprietăți mecanice excelente, conductivitate termică. Cu aceste performanțe excelente, ajută la disiparea mai eficientă a căldurii în dispozitivele semiconductoare, menținând stabilitatea și performanța dispozitivului.

Proprietățile fizice de bază ale acoperirii CVD SiC:

Magazine de productie:

Prezentare generală a lanțului industriei de epitaxie a cipurilor semiconductoare: