MOCVD LED Epi Susceptor

VeTek SemiconductorluiMOCVD LED Epi Susceptoreste o componentă de bază. În procesul de pregătire a dispozitivelor semiconductoare,MOCVD LED Epi Susceptornu este doar o simplă platformă de încălzire, ci și un instrument de proces de precizie, care are un impact profund asupra calității, ratei de creștere, uniformității și altor aspecte ale materialelor cu film subțire.

Utilizările specifice aleMOCVD LED Epi Susceptorîn procesarea semiconductoarelor sunt următoarele:

Încălzirea substratului și controlul uniformității:

MOCVD Epitaxy Susceptor este utilizat pentru a asigura o încălzire uniformă pentru a asigura o temperatură stabilă a substratului în timpul creșterii epitaxiale. Acest lucru este esențial pentru obținerea de filme semiconductoare de înaltă calitate și pentru asigurarea consistenței în grosime și a calității cristalului a straturilor epitaxiale de-a lungul substratului.

Suport pentru camerele reactoarelor de depunere chimică în vapori (CVD).:

Ca o componentă importantă în reactorul CVD, Susceptor sprijină depunerea compușilor organici metalici pe substraturi. Ajută la transformarea cu precizie a acestor compuși în filme solide pentru a forma materialele semiconductoare dorite.

Promovați distribuția gazelor:

Designul Susceptor poate optimiza distribuția fluxului de gaze în camera de reacție, asigurând că gazul de reacție contactează uniform substratul, îmbunătățind astfel uniformitatea și calitatea filmelor epitaxiale.

Puteți fi sigur că cumpărați personalizatMOCVD LED Epi Susceptorde la noi, așteptăm cu nerăbdare să cooperăm cu dvs. Dacă doriți să aflați mai multe informații, ne puteți consulta imediat și vă vom răspunde în timp util!

Proprietățile fizice de bază ale acoperirii CVD SiC:

Magazine de producție:

Prezentare generală a lanțului industriei de epitaxie a cipurilor semiconductoare：