Care este diferența dintre CVD TaC și TaC sinterizat?

1. Ce este carbura de tantal?

Carbura de tantal (TaC) este un compus binar compus din tantal și carbon cu formula empirică TaCX, unde X variază de obicei în intervalul de la 0,4 la 1. Sunt materiale ceramice refractare conductoare metalice foarte dure, fragile. Sunt pulberi maro-cenusii, de obicei sinterizate. Fiind un material metal-ceramic important, carbura de tantal este utilizată comercial pentru sculele de tăiere și uneori este adăugată aliajelor de carbură de tungsten.

Figura 1. Materii Prime Carbură de Tantal

Ceramica cu carbură de tantal este o ceramică care conține șapte faze cristaline de carbură de tantal. Formula chimică este TaC, rețea cubică centrată pe față.

Figura 2.Carbură de tantal - Wikipedia

Densitatea teoretică este de 1,44, punctul de topire este de 3730-3830℃, coeficientul de dilatare termică este de 8,3×10-6, modulul de elasticitate este de 291GPa, conductivitatea termică este de 0,22J/cm·S·C, iar punctul de topire maxim al carburii de tantal este în jur de 3880℃, în funcție de puritatea și condițiile de măsurare. Această valoare este cea mai mare dintre compușii binari.

Figura 3.Depunerea chimică în vapori a carburii de tantal în TaBr5&ndash

2. Cât de puternică este carbura de tantal?

Testând duritatea Vickers, duritatea la rupere și densitatea relativă a unei serii de probe, se poate determina că TaC are cele mai bune proprietăți mecanice la 5,5 GPa și 1300 ℃. Densitatea relativă, duritatea la rupere și duritatea Vickers a TaC sunt de 97,7%, 7,4MPam1/2 și, respectiv, 21,0GPa.

Carbura de tantal se mai numește și ceramică cu carbură de tantal, care este un fel de material ceramic în sens larg;metodele de preparare a carburii de tantal includCVDmetoda, metoda de sinterizare, etc. În prezent, metoda CVD este mai frecvent utilizată în semiconductori, cu puritate ridicată și costuri ridicate.

3. Comparație între carbura de tantal sinterizată și carbura de tantalCVD

În tehnologia de procesare a semiconductorilor, carbura de tantal sinterizată și carbura de tantal prin depunerea chimică în vapori (CVD) sunt două metode comune de preparare a carburii de tantal, care au diferențe semnificative în procesul de preparare, microstructură, performanță și aplicare.

3.1 Procesul de pregătire

Carbură de tantal sinterizată: pulberea de carbură de tantal este sinterizată la temperatură ridicată și presiune ridicată pentru a forma o formă. Acest proces implică densificarea pulberii, creșterea boabelor și îndepărtarea impurităților.

Carbură de tantal CVD: precursorul gazos de carbură de tantal este utilizat pentru a reacționa chimic pe suprafața substratului încălzit, iar filmul de carbură de tantal este depus strat cu strat. Procesul CVD are o bună capacitate de control a grosimii filmului și uniformitate a compoziției.

3.2 Microstructură

Carbură de tantal sinterizată: în general, este o structură policristalină cu granulație și pori mari. Microstructura sa este afectată de factori precum temperatura de sinterizare, presiunea și caracteristicile pulberii.

Carbură de tantal CVD: este de obicei o peliculă densă policristalină cu granulație mică și poate obține o creștere foarte orientată. Microstructura filmului este afectată de factori precum temperatura de depunere, presiunea gazului și compoziția în fază gazoasă.

3.3 Diferențele de performanță

Figura 4. Diferențele de performanță între TaC sinterizat și TaCCVD

3.4 Aplicații

Carbură de tantal sinterizată: Datorită rezistenței sale ridicate, durității ridicate și rezistenței la temperaturi ridicate, este utilizat pe scară largă în scule de tăiere, piese rezistente la uzură, materiale structurale la temperatură ridicată și alte domenii. De exemplu, carbura de tantal sinterizată poate fi utilizată pentru fabricarea de scule de tăiere, cum ar fi burghie și freze, pentru a îmbunătăți eficiența prelucrării și calitatea suprafeței pieselor.

Carbură de tantalCVD: Datorită proprietăților sale de film subțire, aderenței bune și uniformității, este utilizat pe scară largă în dispozitive electronice, materiale de acoperire, catalizatori și alte domenii. De exemplu, carbura de tantal CVD poate fi utilizată ca interconexiuni pentru circuite integrate, acoperiri rezistente la uzură și purtători de catalizator.

-------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- ------------------------------

În calitate de producător, furnizor și fabrică de acoperire cu carbură de tantal, VeTek Semiconductor este un producător de frunte de materiale de acoperire cu carbură de tantal pentru industria semiconductoarelor.

Principalele noastre produse includPiese acoperite cu carbură de tantalCVD, piese sinterizate acoperite cu TaC pentru creșterea cristalelor de SiC sau procese de epitaxie semiconductoare. Produsele noastre principale sunt inele de ghidare acoperite cu carbură de tantal, inele de ghidare acoperite cu TaC, piese semilună acoperite cu TaC, discuri rotative planetare acoperite cu carbură de tantal (Aixtron G10), creuzete acoperite cu TaC; Inele acoperite cu TaC; Grafit poros acoperit cu TaC; Susceptori de grafit acoperiți cu carbură de tantal; Inele de ghidare acoperite cu TaC; Plăci acoperite cu carbură de tantalu TaC; Susceptori de napolitană acoperiți cu TaC; Capace de grafit acoperite cu TaC; Blocuri acoperite cu TaC, etc., cu o puritate mai mică de 5 ppm pentru a satisface cerințele clienților.

Figura 5. Produse de acoperire TaC de la VeTek Semiconductor

VeTek Semiconductor se angajează să devină un inovator în industria acoperirii cu carbură de tantal prin cercetarea și dezvoltarea continuă a tehnologiilor iterative. 

Dacă sunteți interesat de produsele TaC, vă rugăm să nu ezitați să ne contactați direct.

Mob: +86-180 6922 0752

WhatsApp: +86 180 6922 0752

E-mail: anny@veteksemi.com